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            上海伯东真空产品事业部搬迁通知

            Hakuto (NS) 离子蚀刻机

            Hakuto NS 日本原装设计制造离子刻蚀机, 提供微米级刻蚀, 满足所有材料的刻蚀, 即使对黄金 AU, 铂 PT, 合金等金属及半导体材料也能提供最优蚀刻. 适用于 MR 薄膜磁头, 自旋电子学, 应力传感器, 射频滤波器, 超导体, 复合半导体材料的刻蚀. NS 蚀刻机可配置德国 Pfeiffer 涡轮分子泵和美国 KRI 考夫曼离子源!

            Hakuto (NS) 离子蚀刻机

            Hakuto (NS) 离子蚀刻机对磁性材料, 黄金, 铂和合金金属提供最佳蚀刻技术. 适合做各种材料的蚀刻.

            型号

            NS 7.5IBE

            NS 10IBE

            NS 20IBE-C

            NS 20IBE-J

            适用范围

            适用于科研院所,实验室研究

            适合小规模量产使用和实验室研究

            适合中等规模量产使用的离子刻蚀机

            适合大规模量产使用的离子刻蚀机

            基片尺寸

            Φ4 X 1片或
            Φ6 X 1片

            φ8 X 1片

            φ3 inch X 8片
            φ4 inch X 6片
            φ8 inch X 1片

            Φ4 inch X 12片
            φ5 inch X 10片
            φ6 inch X 8片

            NS 离子蚀刻机 7.5IBE

            小型离子蚀刻机,适用于科研院所,实验室研究

            NS 离子蚀刻机 10IBE

            小型离子蚀刻机,适合小规模量产使用和实验室研究

            NS 离子蚀刻机 20IBE-C

            适合中等规模量产使用的离子刻蚀机

             

            NS 离子蚀刻机 20IBE-J

            适合大规模量产使用的离子刻蚀机

             

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