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            上海伯东真空产品事业部搬迁通知

            霍尔离子源 eH 200
            阅读数: 6864

            霍尔离子源 eH 200

            KRI 霍尔离子源 eH 200
            上海伯东代理美国原装进口 KRI 霍尔离子源 eH200 是霍尔离子源型 eH 系列中尺寸最小, 低成本设计离子源. 霍尔离子源 eH200 适用于小型真空腔内, 例如研发分析, 薄膜沉积和离子清洗. 霍尔离子源 eH200 操作简单是理想的生产工具.

            KRI 霍尔离子源 eH 200 技术参数:

            型号

            eH 200

            供电

            DC magnetic confinement

              - 电压

            40-300V VDC

              - 离子源直径

            ~ 2 cm

              - 阳极结构

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            电源控制

            eHx-3005A

            配置

            -

              - 阴极中和器

            Filament or Hollow Cathode

              - 离子束发散角度

            > 45° (hwhm)

              - 阳极

            标准或 Grooved

              - 水冷

              - 底座

            移动或快接法兰

              - 高度

            2.0'

              - 直径

            2.5'

              -加工材料

            金属
            电介质
            半导体

              -工艺气体

            Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors

              - 安装距离

            6-24”

              - 自动控制

            控制4种气体

            * 可选: 可调角度的支架; Filamentless; Sidewinder

            KRI 霍尔离子源 eH 200 应用领域:
            溅镀和蒸发镀膜 PC
            辅助镀膜(光学镀膜)IBAD
            表面改性, 激活 SM
            直接沉积 DD

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