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            上海伯东真空产品事业部搬迁通知

            霍尔离子源 eH 3000
            阅读数: 2802

            霍尔离子源 eH 3000

            KRI 霍尔离子源 eH 3000
            上海伯东代理美国原装进口 KRI 霍尔离子源 eH 3000 最适合大型真空系统, 与友厂大功率离子源对比, eH 3000 是目前市场上最高效, 提供最高离子束流的离子源.
            尺寸: 直径= 9.7“ 高= 6”
            放电电压 / 电流: 50-300V / 20A
            操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体

            KRI 霍尔离子源 eH 3000 特性
            水冷 - 加速冷却
            可拆卸阳极组件 - 易于维护; 维护时,最大限度地减少?;奔? 即插即用备用阳极
            宽波束高放电电流 - 高电流密度; 均匀的蚀刻率; 刻蚀效率高; 高离子辅助镀膜 IAD 效率
            多用途 - 适用于 Load lock / 超高真空系统; 安装方便
            高效的等离子转换和稳定的功率控制

            KRI 霍尔离子源 eH 3000 技术参数

            型号

            eH3000 / eH3000L / eH3000M / eH3000LE

            供电

            DC magnetic confinement

              - 电压

            50-250V VDC

              - 离子源直径

            ~ 7 cm

              - 阳极结构

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            电源控制

            eHx-25020A

            配置

            -

             - 阴极中和器

            Filament, Sidewinder Filament or Hollow Cathode

             - 离子束发散角度

            > 45° (hwhm)

              - 阳极

            标准或 Grooved

             - 水冷

            前板水冷

             - 底座

            移动或快接法兰

             - 高度

            4.0'

             - 直径

            5.7'

             - 加工材料

            金属
            电介质
            半导体

             - 工艺气体

            Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors

             - 安装距离

            16-45”

             - 自动控制

            控制4种气体

            * 可选: 可调角度的支架;

            KRI 霍尔离子源 eH 3000 应用领域
            溅镀和蒸发镀膜 PC
            辅助镀膜 ( 光学镀膜 ) IBAD
            表面改性, 激活 SM
            直接沉积 DD

            其他产品
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