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            上海伯东真空产品事业部搬迁通知

            KRI 考夫曼离子源 KDC 40
            阅读数: 2904

            KRI 考夫曼离子源 KDC 40

            KRI 考夫曼离子源 KDC 40
            上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 40: 小型低成本直流栅极离子源. KDC 40 是 3cm 考夫曼型离子源升级款. 具有更大的栅极, 更坚固, 可以配置自对准第三层栅极. 离子源 KDC 40 适用于所有的离子工艺, 例如预清洗, 表面改性, 辅助镀膜, 溅射镀膜, 离子蚀刻和沉积. 离子源 KDC 40 兼容惰性或活性气体, 例如氧气和氮气. 标准配置下离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 120 mA.

            KRI 考夫曼离子源 KDC 40 技术参数

            型号

            KDC 40

            供电

            DC magnetic confinement

             - 阴极灯丝

            1

             - 阳极电压

            0-100V DC

            电子束

            OptiBeam™

             - 栅极

            专用, 自对准

             -栅极直径

            4 cm

            中和器

            灯丝

            电源控制

            KSC 1202

            配置

            -

             - 阴极中和器

            Filament, Sidewinder Filament  或LFN 1000

             - 架构

            移动或快速法兰

             - 高度

            6.75'

             - 直径

            3.5'

             - 离子束

            集中
            平行
            散设

             -加工材料

            金属
            电介质
            半导体

             -工艺气体

            惰性
            活性
            混合

             -安装距离

            6-18”

             - 自动控制

            控制4种气体

            * 可选: 可调角度的支架


            KRI 考夫曼离子源 KDC 40 应用领域
            溅镀和蒸发镀膜 PC
            辅助镀膜(光学镀膜)IBAD
            表面改性, 激活 SM
            离子溅射沉积和多层结构 IBSD
            离子蚀刻 IBE

            其他产品
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