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            上海伯东真空产品事业部搬迁通知

            KRI 考夫曼离子源 KDC 10
            阅读数: 2706

            KRI 考夫曼离子源 KDC 10

            KRI 考夫曼离子源 KDC 10
            上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 10: 考夫曼型离子源 Gridded 系列最小型号的离子源. 适用于集成在小型的真空设备中, 例如预清洗, 离子溅射, 离子蚀刻. 在 <1000eV 低能量, 通 Ar 氩气时离子蚀刻的能力显著提高.KDC 10 离子源低损伤, 宽束设计, 低成本等优点广泛应用在显微镜领域, 标准配置下 KDC 10 离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 10mA.

             KRI 考夫曼离子源 KDC 10 技术参数

            型号

            KDC 10

            供电

            DC magnetic confinement

             - 阴极灯丝

            1

             - 阳极电压

            0-100V DC

             - 栅极直径

            1cm

            中和器

            灯丝

            电源控制

            KSC 1202

            配置

            -

             - 阴极中和器

            Filament, Sidewinder Filament  或LFN 1000

             - 架构

            移动或快速法兰

             - 高度

            4.5'

             - 直径

            1.52'

             - 离子束

            集中
            平行
            散设

             -加工材料

            金属
            电介质
            半导体

             -工艺气体

            惰性
            活性
            混合

             -安装距离

            2-12”

             - 自动控制

            控制4种气体


            KRI 考夫曼离子源 KDC 10 应用领域
            离子清洗, 显微镜抛光 IBP
            溅镀和蒸发镀膜 PC
            辅助镀膜(光学镀膜) IBAD
            表面改性, 激活 SM
            离子溅射沉积和多层结构 IBSD
            离子蚀刻 IBE

            其他产品
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