"

五大联赛投注✅[135e.cn]亚洲最正规遊戏公司✅顶尖原生APP_五大联赛投注_多款游戏集于一体,非常注重玩家体验|五大联赛投注|7*24H在线服务|期待您加入我们!

  • <tbody id="rud42"></tbody>

  • <button id="rud42"></button>
    <nav id="rud42"><sub id="rud42"><address id="rud42"></address></sub></nav>

    <form id="rud42"></form>

      <tbody id="rud42"><noscript id="rud42"></noscript></tbody>
          <nav id="rud42"><big id="rud42"><address id="rud42"></address></big></nav>
          <em id="rud42"></em>

            <em id="rud42"><tr id="rud42"><u id="rud42"></u></tr></em>
            "
            上海伯东真空产品事业部搬迁通知

            KRI 霍尔离子源 Gridless eH 系列
            阅读数: 5997

            KRI 霍尔离子源 Gridless eH 系列

            美国 KRI 霍尔离子源 Gridless eH 系列
            美国 KRI 霍尔离子源 eH 系列紧凑设计, 高电流低能量宽束型离子源, 提供原子等级的细微加工能力, 霍尔离子源 eH 可以有效地以纳米精度来处理薄膜及表面, 多种型号满足科研及工业, 半导体应用. 霍尔离子源高电流提高镀膜沉积速率, 低能量减少离子轰击损伤表面, 宽束设计有效提高吞吐量和覆盖沉积区. 整体易操作, 易维护. 霍尔离子源 eH 提供一套完整的方案包含离子源, 电子中和器, 电源供应器, 流量控制器 MFC 等等可以直接整合在各类真空设备中, 例如镀膜机, load lock, 溅射系统, 卷绕镀膜机等.
            霍尔离子源

            美国 KRI 霍尔离子源 eH 特性
            无栅极
            高电流低能量
            发散光束 >45
            可快速更换阳极???br /> 可选 Cathode / Neutralize 中和器

            美国 KRI 霍尔离子源 eH 主要应用
            辅助镀膜 IBAD
            溅镀&蒸镀 PC
            表面改性、激活 SM
            沉积 (DD)
            离子蚀刻 LIBE
            光学镀膜
            Biased target ion beam sputter deposition (BTIBSD)
            Ion Beam Modification of Material Properties (IBM)

            例如
            1. 离子辅助镀膜及电子枪蒸镀
            2. 线上式磁控溅射及蒸镀设备预清洗
            3. 表面处理
            4. 表面硬化层镀膜
            5. 磁控溅射辅助镀膜
            7. 偏压离子束磁控溅射镀膜

            美国 KRI 霍尔离子源 Gridless eH

            霍尔离子源 eH 系列在售型号:

            型号

            eH200(停产)

            eH400
            eH400LE

            eH1000
            eH1000LE
            eH1000LO

            eH1000xO2 

            eH2000
            eH2000LE
            eH2000HO 

            eH3000
            eH3000LO
            eH3000MO

            Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others

            Cathode/Neutralizer 

            F or HC

            F or HC

            F or HC

            F or HC

            F or HC
            HC
            HC

            HC

            电压

            30-300V

            50-300V
            30-150V

            50-300V
            30-150V
            50-300V

            100-300V

            50-300V
            30-150V
            50-250V

            50-250V
            50-300V
            50-250V

            电流

            2A

            5A
            10A

            10A
            12A
            5A

            10A

            10A
            15A
            15A

            20A
            10A
            15A

            散射角度

            >45

            >45

            >45

            >45

            >45

            >45

            气体流量

            1-15sccm

            2-25sccm

            2-50sccm

            2-50sccm

            2-75sccm

            5-100sccm

            高度

            2.0“

            3.0“

            4.0“

            4.0“

            4.0“

            6.0“

            直径

            2.5“

            3.7“

            5.7“

            5.7“

            5.7“

            9.7“

            水冷

            可选

            可选

            可选

            可选

            F = Filament; HC = Hollow Cathode; xO2 = Optimized for O2 current

            1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源 Gridded 和霍尔离子源 Gridless. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射沉积 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源 (离子枪) 中国总代理.

             

            其他产品
            五大联赛投注
          1. <tbody id="rud42"></tbody>

          2. <button id="rud42"></button>
            <nav id="rud42"><sub id="rud42"><address id="rud42"></address></sub></nav>

            <form id="rud42"></form>

              <tbody id="rud42"><noscript id="rud42"></noscript></tbody>
                  <nav id="rud42"><big id="rud42"><address id="rud42"></address></big></nav>
                  <em id="rud42"></em>

                    <em id="rud42"><tr id="rud42"><u id="rud42"></u></tr></em>