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            上海伯东真空产品事业部搬迁通知

            射频离子源 RFICP 220
            阅读数: 6638

            射频离子源 RFICP 220

            KRI 射频离子源 RFICP 220
            上海伯东代理美国原装进口 KRI 射频离子源 RFICP 220 高能量栅极离子源,适用于离子溅镀,离子沉积和离子蚀刻. 在离子束溅射工艺中, 离子源 RFICP 220 配有离子光学元件,可以很好的控制离子束去溅射靶材, 实现完美的薄膜特性. 同样的在离子束辅助沉积和离子束刻蚀工艺中, 最佳的离子光学元件能够完成发散和聚集离子束的任务. 标准配置下离子源 RFICP 220 离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 800 mA.

            KRI 射频离子源 RFICP 220 技术参数:

            型号

            RFICP 220

            供电

            RF 射频感应耦合

             - 阴极灯丝

            -

             - 射频功率

            2 KW

            电子束

            OptiBeam™

             - 栅极

            专用,自对准

             -栅极直径

            22 cm

            中和器

            LFN 2000

            电源控制

            RFICP 1510-2-10-LFNA

            配置

            -

             - 阴极中和器

            LFN2000 or MHC1000 or RFN

             - 安装

            移动或快速法兰

             - 高度

            11.8'

             - 直径

            16.1'

             - 离子束

            聚焦
            平行
            散设

             -加工材料

            金属
            电介质
            半导体

             -工艺气体

            惰性
            活性
            混合

             -安装距离

            8-45”

             - 自动控制

            控制4种气体

            * 可选: 灯丝中和器; 可变长度的增量

            KRI 考夫曼离子源 RFICP 220 应用领域:
            预清洗
            表面改性
            辅助镀膜(光学镀膜)IBAD,
            溅镀和蒸发镀膜 PC
            离子溅射沉积和多层结构 IBSD
            离子蚀刻 IBE

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