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            上海伯东真空产品事业部搬迁通知

            射频离子源 RFICP 140
            阅读数: 6524

            射频离子源 RFICP 140

            KRI 射频离子源 RFICP 140
            上海伯东代理美国原装进口 KRI 射频离子源 RFICP 140 是一款紧凑的有栅极离子源,非常适用于离子束溅射沉积, 离子辅助沉积和离子束刻蚀. 在离子束溅射工艺中,离子源 RFICP 140 配有离子光学元件, 可以很好的控制离子束去溅射靶材, 实现完美的薄膜特性. 同样的在离子束辅助沉积和离子束刻蚀工艺中, 最佳的离子光学元件能够完成发散和聚集离子束的任务. 就标准的型号而言, 可以在离子能量为 100~1000 eV 范围内获得很高的离子密度.

            KRI 射频离子源 RFICP 140 技术参数:

            型号

            RFICP 140 / RFICP 140L

            供电

            RF 射频感应耦合

             - 阴极灯丝

            -

             - 射频功率

            1 KW

            电子束

            OptiBeam™

             - 栅极

            专用

             -栅极直径

            14 cm

            中和器

            LFN 2000

            电源控制

            RFICP 1510-2-10-LFNA

            配置

            -

             - 阴极中和器

            LFN2000 or MHC1000 or RFN

             - 安装

            移动或快速法兰

             - 高度

            9.8'

             - 直径

            9.8'

             - 离子束

            聚焦
            平行
            散设

             -加工材料

            金属
            电介质
            半导体

             -工艺气体

            惰性
            活性
            混合

             -安装距离

            8-36”

             - 自动控制

            控制4种气体

            KRI 考夫曼离子源 RFICP 140 应用领域:
            预清洗
            表面改性
            辅助镀膜(光学镀膜)IBAD,
            溅镀和蒸发镀膜 PC
            离子溅射沉积和多层结构 IBSD
            离子蚀刻 IBE

             

             

             

             

             

             

             

             

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